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　　事情1：1月3日，11家企业被参加实体清单，长光所、上海光机所等光学研究机构以及光学元器材企业是首要构成。

　　事情2：1月9新闻报道，拜登政府计划在离任前夕对英伟达等公司的AI芯片出口施行新一轮约束。

　　1、硅片：半导体硅片是出产集成电路、分立器材、传感器等半导体产品的要害资料。

　　沪硅工业（688126）：公司是国内抢先的300nm半导体硅片产品供货商，已完结逻辑、存储、图画传感器（CSI）等运用全掩盖。现有300nm产能为45万片/月。公司把握了半导体硅片出产的多项核心技术，包含但不限于300nm、200nm及以下尺度的半导体硅片要害技术。

　　2、光刻胶：光刻胶是光刻工艺中最重要的耗材，其质量和功能直接影响着电子器材的成品率、功能及可靠性，其本钱在芯片制作资料的总本钱中占比约为12%。

　　容大感光（300576）：公司的光刻胶产品有PCB光刻胶、显现用光刻胶、半导体用光刻胶等，PCB光刻胶所需原资料现已国产化，显现用及半导体光刻胶有部分原资料需求进口。现在正在版图珠海光刻胶及其配套化学品新建项目，估计项目达产后将会新增1.2亿平方米感光干膜及1.53吨显现用光刻胶/半导体光刻胶的产能。

　　南大光电（300346）：公司ArF光刻胶先后经过50nm闪存渠道认证和55nm逻辑电路渠道认证，成为国内经过产品认证的榜首只国产ArF光刻胶。公司已完结两条光刻胶出产线的版图，光刻胶年产能将到达25吨。

　　晶瑞电材（300655）：公司光刻胶产品首要由子公司瑞红姑苏出产，瑞红姑苏规模化出产光刻胶超30年，产品首要运用在于半导体和显现面板范畴，产品技术水平和销售额处于国内抢先地位。

　　强力新材（300429）：公司是国内少量有才能深耕光刻胶专用电子化学品范畴的国家火炬计划要点高新技术企业。公司的根本的产品为光刻胶专用电子化学品，分为光刻胶用光引发剂和感光树脂两大系列。依照运用范畴分类，公司产品首要有PCB用光刻胶专用电子化学品、LCD光刻胶光引发剂、半导体光刻胶光引发剂及其他用处光引发剂四大类。

　　3、超净高纯化学试剂，又成为湿电子化学品。湿电子化学品首要对纯度要求极高，SEM1将纯度从低到高将其分为G1到G5级，国内对应的等级为EL级到UP-SSS级。

　　江化微（603078）：公司的G3等级硫酸、过氧化氢、钛蚀刻液等成功进入国内6寸晶圆、8寸先进封装凸块芯片出产线，在高端湿电子化学品范畴逐渐代替进口。公司的光刻胶及配套试剂事务大多数都用在半导体和面板显现两大范畴。现在公司产品线等级，成为国内最具有竞争力的湿电子化学品集成服务供给商之一。

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